Magnetisk levitert pumpe, CXF-320/3001E, Vannkjøling, ISO-F, Ombord

De magnetisk leviterte molekylære pumpene er pumpene som akslingen støttes på grunn av magnetisk kraft.
Serie magnetisk leviterte molekylære pumper er vakuumgenereringsutstyr utviklet av KYKY for å oppfylle applikasjonskrav innen moderne halvlederproduksjon, brikkeproduksjon, industriell plating og vitenskapelige instrumenter.

Fordeler:

1. Null friksjon under drift, og lavt strømforbruk
2. Lett å skaffe virkelig rent høyt vakuum og ultrahøyt vakuum uten smøring for pumper
3. Kan utvinne etsende gasser for lang sikt
4. Høy sikkerhet og lang levetid på grunn av beskyttelse av lagre med presisjons keramiske kuler
5. strømgenererende funksjon ved plutselig strømstopp
6. Friksjonsfri
7. Fri for forurensning
8. Fri for vedlikehold
9. Lav vibrasjon
10. installert i alle retninger.

Applikasjoner:

Serie magnetisk leviterte molekylære pumper brukes hovedsakelig på områder med halvlederproduksjon, klippeproduksjon, industriell plating og vitenskapelige instrumenter, spesielt for ekstraksjon av etsende gasser som finnes i ets, CVD, PVD og ionimplantasjon og gasser som lett koaguleres ved normal temperatur.

Spesifikasjoner:

Teknologier:

• Kontrollteknologi for magnetisk lager: en 5-akset magnetisk levitert, basert på avansert internasjonal kontrollteori, for å garantere slike betydelige fordeler med høyhastighets aksling som stabil levitert og pålitelig drift.
• Motor Drive Control Technology: Høyeffektiv høyhastighets likestrømsmotor og servokontrollsystem, som har maksimal energi til motoren og kompenserer rotasjonshastigheten for aksling automatisk, og derved oppnår stabil oppstart, pålitelig drift og automatisk reguleringsfunksjon for dynamisk energi.
• Karbonfiber komposittrotorteknologi: Laget ved å blande høyfast aluminiumslegering og lett karbonfiber. preget av stor vektreduksjon og stor styrkeforbedring, slik at mål om høy rotasjonshastighet, høy ytelse og høy pålitelighet oppnås.
• Korrosjonsbestandig teknologi: Overflater av deler i kamre behandles med en spesiell prosess, slik at overflatene kan motstå korrosjon forårsaket av etsende gasser i halvlederproduksjonsprosesser i lang tid. I tillegg er inerte gasser som N2 fullt fylt med aksling av pumpene for å beskytte de lave vakuumdelene i pumpene, slik at funksjonen til stabilt utmattende etsende gasser i lange perioder blir realisert.
• Kontrollsystem for oppvarmingstemperatur: utstyrt med en elektrisk varmeapparat og en temperaturkontroller, kan kjølevann, luftbeinvarme, elektrisk oppvarming og varme som bæres av beskyttende gasser overvåkes og kontrolleres under drift, temperaturen i pumpene kan opprettholdes til en viss verdi for lang sikt, noen gassformige stoffer omdannes ikke til faste stoffer ved normal temperatur og deponeres ikke i pumpene, og krav til spesiell prosess som etsning kan oppfylles.